第525章 分辨率10m 1 / 2

525章 分辨率10μm

瓷飞厂,肖远赴京城,高振东远远完。

,正防工委位五爷――轰炸机资料,细细计算、考虑

攻-5装雷达

入神候,门被敲响

高振东门,门口口分师妹马娟,马娟性格虽比较直,英气,很细,正合适代表分厂实验室跟进光刻机组装宜。

“高师兄,消息消息!”马娟像伍升远眼,单位叫高师兄,高振东听挺爽。

“光刻机组装?”,除

“嗯嗯嗯,装先试试,各指标完全达标。”

“太,走,。”高振东东西收,站往光刻机试制车间走。

马娟跟,马娟笑:“思,主持套刻度试验。”

高振东连连点头:“嗯,试,试。走!走!”

指标,海带师傅马娟配合基本套刻度,算综合检验。

走进光刻机试制车间,透玻璃向超净室,展高振东试验室通风试验橱东西,或者像搞物防护显微装置,别台显微镜贼显眼。

台显微镜检查,主解决套刻准问题。高振东掩模设计准标志,台光刻机台显微镜

机器高振东,改少次老伙计见,阵激

结果东西高振东已经台设备,股气。

高振东世,线东西,喷啥,慢慢演变喷啥才啥。

少数几领域蹲,任东南西北风,,嘴呀!……光刻机光源,?”高振东耐烦,拿键盘走远。

走远归走远,东西穿越止,完全拿,至少高端,光刻机

玩玩,光源

高振东防护服,几名试验员走进超净室。

试验员早试验准备做,走进,打关,高振东:“高。”

高振东拿夹具,燥剂硅片架片单晶硅片,放工件台关,硅片被吸附固定。

单晶硅片已经经清洗、燥等处理,光刻胶力此

高振东退步,将接试验马娟。

爽感,至具体试验员比脚麻利,专业给专业做。

高振东光刻机原始,原始,固定硅片,马娟关,硅片始旋转。

高振东设计,位,光刻胶涂布,直接旋涂法,光刻机方法涂布综合性肯定旋涂法

旋涂法单晶硅片平坦简单表涂布,平坦化力强,容易控制厚度,涂层密度,厚度均匀,缺陷,接受处理。

旋转很快达预设转速,涂料确定,涂层厚度涂布结果参数与转速高度相关,旋转,工件台硅片进加热,除表重新附水汽。

细节,高振东世带眼,很重