第150章 第二代光刻机下线 1 / 2

王铭陈蕊匆匆赶光电间已经点晚,玩笑,“呢!”

王铭嘿嘿笑,答,“昨,今点,实抱歉。”

长摆摆,“跟玩笑呢,走,带伙。”

长带研究尘车间,众尘服,进入长指三台型机器,“三台定制二代光刻机,采提供双工件加工技术,芯片产效率比老款提高40%左右。”

台光刻机产微米制程芯片,良品率效率幅提升。特别0.35微米芯片代产品良品率45%左右,代提高72%左右;代产品次性装载30块原晶,改进提高50块。”

产品怎提升?”

提供技术方向给块接触式光刻机方比较深入研究,接近式光刻机方81已经品,技术加持绩并奇怪。”

奇问,“次性订购三台,芯片吗?”

几条产品线、新产品蓄势待光刻机!”王铭停留技术图纸产品,忍住追问,“三代扫描投影式光刻机进展怎?”

三代扫描投影式光刻机技术储备,85已经功研制合适产品应直被束高阁。”点惋惜,“批量化经验积累提供技术方案,三代光刻机方进展非常顺利。”

估计二代光刻机被淘汰。”解释,“M三代 光刻机应该已经进入熟阶段,问题,推广江猛龙,迟1998批量三代光刻机。”

“放三代光刻机方肯定腿,迟今底,试制完。”长指旁安装机器,“三代机器,目进度已经半,加技术积累,底完问题。”

三代光刻机创新性使投影式进光刻,扫描方式实曝光,光源改进248nmKrF激光,工艺推进至180-130nm,握将低130nm制程良品率至少提高60%!”