第315章 1 / 2

陈远此淙徊凰隳谛

声名远扬投资界佬,光刻机

此刻才显此震惊。

双重曝光光刻技术光刻胶覆盖晶片分别进两次曝光。

两次曝光光刻胶使掩模版。

相比紫外光刻技术,整整领先代。

,全球知名半导体企业,紫外光刻。

,明明试验阶段,陆

陈远葱睦锖苊靼祝高盛,段。

将双重曝光光刻机给搞

邪乎呢?

重新定义

“陆。。。陆,您确定,您玩笑?真双重曝光光刻机?”

樊东,利索。

。。。

厂使1980左右紫外光刻。

樊东麻省理工候,导师带领,参与双重曝光光刻研究与运

全新双重曝光光刻技术,给樊东留深刻印象。

初步研究,限制。

华夏原因,很次秘密实验,被允许进入实验室。

樊东才绑定协议,终导致与双重曝光光刻技术失臂。

,陆。。。

“怎玩笑?”

思,陆。。。”

犹豫什?机答应,加入华夏龙腾网络科技,公司华夏龙腾网络科技公司,依旧独立运营,公司主导权,并且每提供研究经费。”